lithography相关论文
基于时域有限差分法(FDTD)对一维金属线栅结构在0.2~2.6 THz波段的偏振特性进行了数值分析，研究了其结构参数如金属占空比、狭缝宽......
针对光刻机照明系统的实际应用需求,提出了一种光瞳特性参数的评估算法。该算法通过对光瞳强度分布进行转换,可以在不同照明模式下......
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Thermo-mechanical dynamics of nanoimprinting anti-reflective structures onto small-core mid-IR chalc
Thermal nanoimprinting is a fast and versatile method for transferring the anti-reflective properties of subwavelength n......
针对纳米光栅的加工需求，提出一种以柱形光栅耦合结构为基础的单模共振干涉光刻方法。该方法以柱形光栅耦合结构为掩模，结合光刻胶和......
正弦结构光场普遍应用于精密光学的三维测量,其正弦性直接或间接影响三维测量的精度。根据正弦条纹的周期性和对称性等几何特征,以......
基于4H-SiC材料的微机电系统（MEMS）器件（如压力传感器、微波功率半导体器件等）在制造过程中，需要利用干法刻蚀技术对4H-SiC材料进行微加......
为了更好地了解表面增强拉曼光谱(SERS)的机制，并进一步提高增强因子，研制了具有高稳定性的纳米劈裂装置及芯片。结合纳米劈裂技术及......
利用琼斯矩阵分析了大角度入射情况时薄膜诱导的偏振像差，通过理论推导提出了减小薄膜诱导偏振像差的膜系设计方法，即在满足最基本的......
多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的发展方向。提出了一种以光刻胶三维形貌差异为评价目标的光刻多参数联合优化方法。以多个深......
针对大阵列CCD工艺制作过程中光刻大面积图形曝光的需求，提出了一种适用于光刻拼接的图形补偿方法。图形拼接处进行相反的补偿设计0......
Non-coplanar multi-beam interference produced by one triangular pyramid for fabricating photonic cry
A method for fabricating three-dimensional (3D) photonic crystals (PhCs) easily and simply, by using a visible light (~5......
本文设计了一种新系列的紫外或远紫外激光光刻物镜,它与国内外已有的紫外物镜相比,在365nm以下的光谱区,具有更宽的光谱工作带宽和......
利用GaN高电子迁移率晶体管（HEMT）的栅控特性和锆钛酸铅（PZT）铁电薄膜的光伏效应，在HEMT器件的栅极处沉积一层PZT铁电薄膜，提出了一种新......
波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径（NA）成像系统，待测光不再平行于系统光轴，而是与系统光轴有较大夹角......
Directed self-assembly (DSA) emerges as one of the most promising new patterning techniques for single digit miniaturiza......
提出一种基于差分进化算法和微反射镜阵列(MMA)光源模型的光刻机匹配方法。加入MMA光源模型,利用差分进化算法优化微反射镜光斑分......
相移点衍射干涉仪利用测试波和参考波的横向错位产生载波干涉条纹,因此测量结果中必然引入一定的系统误差。在分析相移点衍射干涉......
提出了一种基于多偏振照明的浸没式光刻机投影物镜高阶波像差快速检测技术。通过采用一元线性采样方式,在不同偏振照明条件下采集......
March 19-20,2009 Shanghai,ChinaWelcome to ISTC/CSTIC 2009.ISTC/CSTIC iS intended to be the largest annualinternational c......
In this paper, next-generation lithography (NGL) for the 22 and 16 nm technology nodes and beyond is reviewed. A broad r......
In this work,a 90-nm critical dimension(CD) technological process in an ArF laser lithography system is simulated,and th......
A low-cost infrared absorbing structure for an uncooled infrared detector in a standard CMOS process
This paper introduces a low-cost infrared absorbing structure for an uncooled infrared detector in a standard 0.5 m CMOS......
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45 nm及以下技术节点的掩模要求.此外类似于折射指数、平整度、成分、均......
Micro stereo lithography is a kind of technology utilizing the solidified effect that photo curable polymer will appear ......
This paper describes the design and fabrication of superconducting hot electron bolometer (HEB) mixer based on ultra-thi......
In this work, TeO_(0.7)thin films were prepared by the reactive magnetron-controlling sputtering method. Complex gray-sc......
We developed a simplified nanofabrication process for imprint templates by fast speed electron beam lithography(EBL) and......
This paper presents a robust algorithm to generate support for fused deposition modeling (FDM). Since many flaws appear ......
研究了NA1.35浸没式光刻照明系统中照明模式变换模块的设计和测试.采用衍射光学元件实现包括传统照明、二极照明、四极照明的照明......
Application of resist-profile-aware source optimization in 28 nm full chip optical proximity correct
As technology node shrinks, aggressive design rules for contact and other back end of line(BEOL)layers continue to drive......
随着光学投影光刻分辨力的提高，投影物镜的焦深在逐渐缩短。为充分利用物镜有限的焦深，一般采用调焦技术来调整硅片位置。作为调焦的......
基于它的技术优势三雏集成技术正在不断地被应用到新的产品中,也包括被应用到消费电子产品里.同时也对许多工艺提出了新的要求,其......
为了在一个封装内集成更高层次的功能,设计人员采用了创造性的策略,即将多芯片规格、类型乃至材料合并成单个组件.连接不同的芯片......
目前,3D集成技术的优势正在扩展消费类电子产品的潜在应用进入批量市场.这些新技术也在推进着当前许多生产工艺中的一些封装技术包......
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光学光刻技术已广泛应用于微电子机械系统(MEMS)以及集成电路(IC)领域.由于光刻工艺设备的价格十分昂贵,因此利用光刻仿真这一技术......
In this contribution we review our latest achievements of combined experimental and theoretical studies to tailor the pr......
针对微细电火花加工中面临的微小型复杂电极制作难的问题,提出了一种基于光刻技术微小型电极的制作方法,其宽度为0.15mm,间隙0.20m......
研究了旋涂和光刻工艺对制备表面传导发射显示器(SED)微细结构的影响,分析正性光刻胶和旋涂工艺的作用机理,探讨光刻胶的平面旋涂......
193nmArF激基体激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点.本文介绍了近年来......
分析了极紫外光刻技术作为下下代光刻技术的首选技术目前飞速发展阶段的状况，表明欧、美、日、俄等国家和地区在该领域集中了大量的......
提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D。该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型，实现了投影式光学光刻的三维......
调焦调平测量系统是光刻机对焦控制的核心部件,调焦调平测量系统的数据处理精度影响光刻机的对焦控制性能,计算速度影响光刻机产能......
193nmArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90nm以下节点半导体量产。分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术：主振一功率再......
分析图像相关识别中的纯相位匹配滤波器的模式识别方法，利用该滤波器的相关识别位图计算算法，及其所具有的相干峰尖锐特性与高度旋转......
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光......
分类介绍了国内外加工纳米间隙电极的主要研究进展,并特别介绍了近期发展起来的一般光刻技术结合选择性化学沉积方法制备纳米间隙......
红外探测器不论是在军事还是在民用方面都有非常重要的应用。非致冷热释电红外探测器由于具有光谱响应宽、无需致冷等显著优点，近年......
当前半导体器件加工水平正在向22 nm方向发展,而最有希望实现这一尺寸的光刻技术即为EUV光刻技术。EUV光源所发出的13.5 nm辐射因......
